熱処理装置(縦型炉)

熱処理装置(縦型炉)

熱処理装置(縦型炉)  Vertical Furnace System

多種多様な要求に対して、最適なプロセスを高スループットにて提供可能な熱処理装置です。

特長

  • 酸化膜やドープ/非ドープの多結晶シリコン膜、窒化膜の成膜が可能
  • 低ストレスの窒化膜の成膜、In-situクリーニングの提供が可能
  • デュアル・ボート装置としては、最小フットプリントを実現
  • デュアル・ボートの採用により、高スループットを実現
  • ロードロック内を低酸素雰囲気にして、待機時の自然酸化膜を抑制
  • 150mmウェーハと200mmウェーハの混載処理が可能(AVP/RVP)
  • 300mmウェーハまでの処理が可能(RVP300plus)
  • Across-Flowインジェクターにより、面内膜厚均一性、バッチ内バラツキの低減が可能(RVP300plus)

アプリケーション

  • MEMSデバイス(加速度センサ、ジャイロセンサ、圧力センサ、シリコンマイク、シリコン共振器、光スイッチなど)
  • インクジェットプリンタヘッド
  • 3次元貫通電極(TSV)
  • パワーデバイス(パワー半導体)
  • LED
  • 光デバイス
  • RFデバイス  など