化合物/酸化膜エッチング装置

化合物/酸化膜エッチング装置

化合物/酸化膜エッチング装置  Compound Semiconductor/SiO2 Etching System

化合物半導体をはじめ、光デバイスなど難エッチング材料向けをエッチング装置です。

特長

  • 化合物・酸化膜エッチングなどのプロセスに対して最適化した高密度プラズマ源を搭載
  • 高周波、パワーデバイスで注目されるSiCエッチングで世界最高レベルのエッチレートを実現
  • フォトニクスデバイス用途でシリコン酸化膜やLiNbO3などの難エッチング材料高速エッチングが可能
  • 樹脂などの有機系膜を垂直に異方エッチング可能
  • 真空ロードロック型からクラスタ型までの搬送系をラインナップし、研究開発から量産まで対応可能

アプリケーション

  • 3次元貫通電極(TSV)
  • パワーデバイス(パワー半導体)
  • LED
  • 光デバイス
  • RFデバイス  など