Products 製品紹介

R&D用シリコン酸化膜犠牲層エッチング装置 SPTS Technologies社製 Primaxx-uEtch

犠牲層エッチング

Primaxx
R&D用シリコン酸化膜犠牲層エッチング装置 Si02 Sacrificial Layer Etching System for R&D
R&D向けMEMS用途で、無水HF(フッ化水素)とアルコールによるシリコン酸化膜犠牲層エッチング装置です。

R&D用シリコン酸化膜犠牲層エッチング装置
赤外線ポロメータ構造
赤外線ポロメータ構造
カンチレバー構造
カンチレバー構造
SOIウェーハBOX層リリース
SOIウェーハBOX層リリース
シリコンオシレータ構造
シリコンオシレータ構造(提供:SiTime殿)

Feature 特徴

無水HFとアルコールによるシリコン酸化膜犠牲層エッチング装置
オープンロード型で、安全に配慮した研究開発向けの実験用簡易装置
ウエット処理と比べ、スティクションが起きやすい微細構造のリリースに有効
ドライプロセスで廃液処理不要、低メンテナンス頻度で高安定性
コンパクトで、安価なモデル

Application アプリケーション

MEMSデバイス ※

※ MEMSデバイス:加速度センサ、ジャイロセンサ、圧力センサ、シリコンマイク、シリコン共振器、光スイッチなど

犠牲層エッチング その他の製品