Products 製品紹介

300mm対応酸化膜/窒化膜成膜装置 SPTS Technologies社製 Delta

成膜/熱処理

SPTS
酸化膜/窒化膜成膜装置 SiO2/SiN PE-CVD System for 300mm
300mmウェーハ対応の低ストレスシリコン窒化膜や、TSVライナー絶縁酸化膜の形成に最適なプラズマ成膜装置です。

プラズマ成膜装置
ホールへの良好な埋め込み特性
ホールへの良好な埋め込み特性
キャパシタ構造向け高耐電圧のSiN膜
キャパシタ構造向け
高耐電圧のSiN膜
2周波混合プロセスによるストレスコントロール
2周波混合プロセスによるストレスコントロール

Feature 特徴

TSV用途で小径、高アスペクト構造への優れたステップカバレッジのSiO2膜低温成膜が可能
化合物半導体用途でキャパシタ構造への高い耐電圧/信頼性SiN成膜が可能
化合物半導体用途で保護膜への低水素濃度SiN成膜が可能
SiN成膜プロセスでストレスコントロールが可能
       
300mmウェーハまでの処理が可能
       
2種類のクラスタ型搬送システムをラインナップし、研究開発から量産まで対応可能

Application アプリケーション

3次元貫通電極(TSV)

化合物半導体

パワーデバイス(パワー半導体)

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