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「Compound Semiconductor Week 2019」(5/20~23、奈良春日野国際フォーラムにて開催)に出展しました。
「MEMS Engineer Forum 2019」(4/24~25、KFCホールにて開催)に出展しました。
シリコン酸化膜犠牲層エッチング装置 “Vetelgeuse” をリリースしました。
シリコン深掘り装置 “Proxion” が優秀賞を受賞しました。
分子膜成膜装置 “MVD” の取り扱いを開始しました。
新型プラズマダイシング装置 “Mosaic” の取り扱いを開始しました。
新型シリコン深掘り装置 “Proxion” をリリースしました。
化合物エッチング装置 “Spica” が優秀賞を受賞しました。

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