Products 製品紹介

酸化膜/窒化膜成膜装置 Cetus

成膜/熱処理

酸化膜/窒化膜成膜装置 SiO2/SiN PE-CVD System
低ストレスシリコン窒化膜や、厚膜シリコン酸化膜の形成用プラズマ成膜装置です

酸化膜/窒化膜成膜装置
TSVへのシリコン埋め込み酸化膜
TSVへのシリコン埋め込み酸化膜
シリコン酸化膜の厚膜成膜
シリコン酸化膜の厚膜成膜
低ストレスSiN成膜
低ストレスSiN成膜
(提供:Cambridge Univ.殿)
AI配線上への酸化膜成膜
AI配線上への酸化膜成膜

Feature 特徴

各種MEMSデバイスや光導波路用途のシリコン酸化膜をクラック無く高速で厚膜形成が可能
TSV用途で小径、高アスペクト構造への優れたステップカバレッジのSiO2膜低温成膜が可能
化合物半導体のパッシーベーション用途で水素含有量の低い高品位シリコン窒化膜形成が可能
MEMSでのメンブレン用途に低ストレスのシリコン窒化膜形成
       
真空ロードロック型からクラスタ型までの搬送系をラインナップし、研究開発から量産まで対応可能

Application アプリケーション

MEMSデバイス ※

インクジェットプリンタヘッド

3次元貫通電極(TSV)

パワーデバイス(パワー半導体)

LED

光デバイス

RFデバイス(高周波デバイス)

※ MEMSデバイス:加速度センサ、ジャイロセンサ、圧力センサ、シリコンマイク、シリコン共振器、光スイッチなど

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