Products 製品紹介
氧化硅薄膜犧牲層蝕刻設備 Betelgeuse
犧牲層蝕刻氧化硅薄膜犧牲層蝕刻設備 Si02 Sacrificial Layer Etching System
用於MEMS的無水氟化氫(HF)和醇蝕刻氧化硅薄膜犧牲層蝕刻設備





Feature 特點
- 含有鋁電極的結構也可在不腐蝕鋁的情況下進行蝕刻
- 可進行微加工,可實現毫米單位的長下根切
- 乾法工藝,無需廢液處理,低維護頻率,高穩定性
- 可對應簡易手動搬送系統,集群搬送系統,從研發到量產的需求皆可滿足
Application 應用
MEMS器件 ※
※ MEMS器件:加速度傳感器,陀螺儀傳感器,壓力傳感器,硅麥克風,硅共振器,光開關 等