Products 製品紹介

氧化硅薄膜犧牲層蝕刻設備 Betelgeuse

犧牲層蝕刻

氧化硅薄膜犧牲層蝕刻設備 Si02 Sacrificial Layer Etching System
用於MEMS的無水氟化氫(HF)和醇蝕刻氧化硅薄膜犧牲層蝕刻設備

氧化硅薄膜犧牲層蝕刻設備
紅外線偏振計結構
紅外線偏振計結構
懸臂結構
懸臂結構
SOI晶圓BOX層釋放
SOI晶圓BOX層釋放
硅震蕩器結構
硅震蕩器結構(提供:SiTime殿)

Feature 特點

含有鋁電極的結構也可在不腐蝕鋁的情況下進行蝕刻
可進行微加工,可實現毫米單位的長下根切
乾法工藝,無需廢液處理,低維護頻率,高穩定性
可對應簡易手動搬送系統,集群搬送系統,從研發到量產的需求皆可滿足

Application 應用

MEMS器件 ※

※ MEMS器件:加速度傳感器,陀螺儀傳感器,壓力傳感器,硅麥克風,硅共振器,光開關 等