Products 产品介绍
熱處理設備（立式爐） SPT Microtechnologies USA社製 AVP/RVP-300
沉積薄膜／熱處理
熱處理設備（立式爐） Vertical Furnace System
對應各種規格需求，實現高吞吐量同時提供最優工藝的熱處理設備。
Feature 特徴
- 可沉積氧化膜，摻雜／非摻雜多晶硅薄膜，氮化薄膜
- 能夠沉積低應力氮化膜，並提供原位清洗
- 占地面积最小的双處理船设备
- 採用雙處理船設計，實現高吞吐量
- 在裝艙內創建低氧氣環境，抑制待機時的自然氧化膜
- 可以混合處理150mm和200mm晶圓（AVP）
- 可以處理300mm晶圓（RVP-300）
- 通過橫向流動噴射器，實現面內薄膜厚度均勻性，並降低批次內的偏差（RVP-300）
Application 應用
MEMS器件 ※
噴墨打印頭
三維硅通孔電極（TSV）
功率器件（功率半導體）
LED
光學器件
RF器件（射頻器件）
※ MEMS器件：加速度傳感器，陀螺儀傳感器，壓力傳感器，硅麥克風，硅共振器，光開關 等
