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2024.02.02News

Neutral Beam Etching System (NBE): Low-Damage Etching Technology for Semiconductor Applications

2023.09.01News

酸化膜／窒化膜用 PECVD装置「Cetus（セタス）」加工性能実例を紹介

2023.04.06News

シリコン酸化膜ガスエッチング装置 「Vetelgeuse（ベテルギウス）」 加工性能実例を紹介

2022.10.27News

化合物エッチング装置 「Spica（スピカ）」 の加工性能実例を紹介

2022.10.12News

What Makes the Predeus Si DRIE System the Leading Choice for Advanced Etching Processes

2022.09.28News

化合物／誘電体材料エッチング装置「Sirius（シリウス）」加工性能実例を紹介

2017.12.02News

シリコン酸化膜犠牲層エッチング装置 “Vetelgeuse” をリリースしました。

2017.05.29News

分子膜成膜装置 “MVD” の取り扱いを開始しました。

2016.12.13News

新型プラズマダイシング装置 “Mosaic” の取り扱いを開始しました。

2016.12.13News

新型シリコン深掘り装置 “Proxion” をリリースしました。